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首頁 > 產(chǎn)品展示 > 德國菲希爾Fischer測(cè)厚儀 > CMS2庫侖電解測(cè)厚儀 > COULOSCOPE CMS2 STEP用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測(cè)量儀

用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測(cè)量儀

  • 更新時(shí)間:2022-03-14
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用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測(cè)量儀
庫侖法的成本效益高,可準(zhǔn)確地替代X射線熒光法-前提是你可以接受一種破壞性的測(cè)量方法。它為您提供了很大的靈活性,因?yàn)樗梢杂糜趶V泛的鍍層組合。您可以使用庫侖法測(cè)量鍍層厚度,特別是在電鍍鍍層的質(zhì)量控制中,以及用于監(jiān)測(cè)印刷電路板上的殘余純錫厚度。

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品牌Helmut Fischer/德國菲希爾價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域化工,電子,印刷包裝,航天,汽車

用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測(cè)量儀

在一定的厚度以上,X射線熒光對(duì)鍍層的無損測(cè)量達(dá)到了極限,這就是COULOSCOPE®CMS2發(fā)揮作用的地方。它用庫侖法測(cè)量多種金屬鍍層的厚度,這是做相當(dāng)簡單的退鍍處理。COULOSCOPE CMS2可以準(zhǔn)確地測(cè)量許多常見的單層和多層鍍層。用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測(cè)量儀

庫侖法的成本效益高,可準(zhǔn)確地替代X射線熒光法-前提是你可以接受一種破壞性的測(cè)量方法。它為您提供了很大的靈活性,因?yàn)樗梢杂糜趶V泛的鍍層組合。您可以使用庫侖法測(cè)量鍍層厚度,特別是在電鍍鍍層的質(zhì)量控制中,以及用于監(jiān)測(cè)印刷電路板上的殘余純錫厚度。

STEP測(cè)試:庫侖法測(cè)量鍍層厚度和多層鎳的電化學(xué)電位測(cè)量

如果你想在使用庫侖法測(cè)量鍍層厚度的同時(shí)測(cè)量電化學(xué)電勢(shì),那么COULOSCOPE CMS2 STEP就是你的選擇。STEP測(cè)試方法可以同時(shí)測(cè)量多層鎳鍍層的電位差和鍍層厚度,非常適合測(cè)定這些鍍層的腐蝕行為。

特性

  • 高精度測(cè)量多層金屬鍍層的厚度(庫侖法)

  • 根據(jù)DIN EN ISO 2177進(jìn)行測(cè)量

  • 通過彩色顯示屏和圖形支持的用戶指南直觀地操作

  • 可輕松選擇電解速度(0.1-50微米/分鐘)和電解面積(0.6-3.2mm)

  • 針對(duì)不同鍍層系統(tǒng)(如鐵上鍍鋅或黃銅上鍍鎳)預(yù)先設(shè)定了近100種測(cè)量應(yīng)用

  • 測(cè)量單元上電壓曲線的圖形顯示

  • 圖形和統(tǒng)計(jì)評(píng)估

  • 帶支撐架的部分自動(dòng)化測(cè)量,適用于各種樣品尺寸

  • 全面的配件組合,以適應(yīng)特定的要求

COULOSCOPE CMS2 STEP的附加功能

  • 同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和電位差

  • 根據(jù)ASTM B764 - 04和DIN EN 16866進(jìn)行電位差測(cè)試

  • 銀參比電極測(cè)量前的準(zhǔn)備工作(產(chǎn)生必要的AgCl層)

  • 電解電流可調(diào)整

  • 可直接在測(cè)厚儀顯示器上評(píng)估電位曲線

應(yīng)用

  • 電鍍生產(chǎn)過程中的監(jiān)控和成品的進(jìn)廠檢驗(yàn)

  • 可以準(zhǔn)確測(cè)量多種金屬鍍層的厚度0.05–50µm(根據(jù)材料不同)

  • 金屬和非金屬基材上單層和多層鍍層厚度的測(cè)量

  • 多鍍層體系:例如在鐵或塑料基體(ABS)上鍍鉻/鎳/銅等多層鍍層

  • 雙鍍層體系:例如銀或銅上面鍍錫或鍍鎳

  • 單鍍層如鐵上鍍鋅

COULOSCOPE CMS2 STEP的額外應(yīng)用

  • STEP測(cè)試:在銅、鐵、鋁或塑料襯底(ABS)上的多層鎳層系統(tǒng)

篤摯儀器(上海)有限公司擁有源自美國、英國、德國等多地區(qū)的合作伙伴,憑借種類齊全的產(chǎn)品資源和服務(wù),涵蓋光學(xué)儀器、測(cè)量儀器、無損檢測(cè)、實(shí)驗(yàn)儀器、分析儀器、量具量儀等各類檢測(cè)設(shè)備,努力為客戶解決日新月異的測(cè)量分析技術(shù)挑戰(zhàn),共同提供定制化精密測(cè)量和性能分析系統(tǒng)解決方案,有效推動(dòng)企業(yè)實(shí)現(xiàn)既定目標(biāo)。

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